次世代半導体に向けた素材開発環境を提供します。


材料メーカーにおける熱関連ニーズ

次世代半導体に向けた素材開発環境構築のため、ユーザーと同じ測定環境を整えることが求められています。ユーザーと共同開発するときの評価環境を整えます。

  • SiCやGaNに合わせ、250℃で特性評価を行いたい
  • 恒温槽では実現できなかった、圧力をかけた状態で測定したい
  • 温度変化による素材の膨張収縮を吸収しながら、圧力を一定にしたい


材料メーカーおける従来の熱対策方法

従来は、素子が自己発熱するため250℃などの高温に維持することが困難でした。そのため、150℃などで評価したデータから推測していましたが、当社では、熱を吸収しながら高温を維持することができるシステムを開発しました。


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当社は、「熱設計に長けた」メカ設計エンジニアの集団です。
「熱設計」を考慮したカスタム装置(治具づくり)を得意にしており、これまでにない最適化されたユーザー仕様の温調装置をご提供いたします。

  • サンプルの形状を確認しながら温調できますか?
    温調精度を維持したまま、サンプルに近いところに「窓」をレイアウトすることができます。顕微鏡やレーザー変位計などと組み合わせることもできます。
  • 温度変化による膨張収縮に追従して、圧力一定にできますか?
    可能です。
  • 圧力はどの程度かけられますか?
    10kN程度までの実績があり、設計によりそれ以上も対応可能です。
  • 液体の温調もできますか?
    はい、実績があります。
  • 設定温度の到達時間はどの程度ですか?
    通常の恒温槽は60~120分のところ、当社製品は6~12分で設定温度まで到達させることができます。
  • 導入にあたり、電気工事が必要ですか?
    100V電源で動作いたしますので、電気工事は不要です。
  • 移設できますか?
    持ち運び可能です。20kg以下のため、部署間移動も可能です。

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